학습목표

반도체 제조 클린룸의 환경 조건에 영향을 주는 온도, 습도, 부유분진, 기류속도, 조도, 소음, 진동, 정전기 등의 클린룸 기초 기술과 초 청정클린룸 구성을 위한 설계 및 구성방식, 클린룸의 기본 원칙에 대한 이해와 전문 기술 함양 할 수 있다.

교육대상

하이테크 플랜트 설계, 시공, 반도체, LCD, OLED, TV, 전기전자제조

(시공, 설계), 장비제조, 운영실무자), 바이오(제약, 식품), 하이테크 산업플랜트 등

강 사

원영재 박사 [現)선진건설, 前)고려대학교, 삼성엔지니어링, GS건설]

정 원

16명

시 간

2일(총 14시간, 1일 7시간)

교 육 비

전액 정부 지원(교육비 및 교재 등)

*대규모기업의 경우 교육비의 20%(44,000원) 자부담

과목명

상세 교육내용

클린룸 기본 원리

및 특성

가. 반도체 클린룸의 특성과 기초 기술 이해

∙클린룸의 종류 및 구성방식

∙반도체 라인 구성 및 제조 시설의 특성

∙클린룸 원리 및 기본 원칙(설계기준, 공조방식 등)

나. 클린룸 환경 조건 및 관리 기술

∙청정도 유지를 위한 환경 조건 (온습도 및 기류 제어,정전기 등) 및 관리기술

∙청정도 등급 및 환기횟수

다. 클린룸의 공조 방식 특성과 클린룸내 작업절차

∙클린룸의 공조 방식 구성 특성 이해

∙클린룸에서의 작업 절차 및 안전을 위한 사전 교육

(작업환경 및 윤리의식)

초 청정 클린룸의 청정도 관리 기술

가. 반도체 클린룸 환경 조건

∙클린룸 규격 및 청정도

∙TAB를 위한 도면 검토 및 수행 절차

∙클린룸의 수율 향상을 위한 개선 사례

나. 클린룸 무진장비의 종류 및 원리 (특성)

∙클린룸 무진장비류 종류 및 특성 이해

(FFU, EFU, 국소청정을 위한 방식) 등 관리기술

다. 냉,열원 공조 장비 특성

∙클린룸 공조방식 특성

∙초 청정 클린룸 구성을 위한 운영관리 기술

(클리닝 및 운영관리 기본원칙)

반도체 클린룸의

시공 관리기술

가. 반도체 클린룸의 청정도 확보를 위한 구성 단계

∙관리 계획서 작성 및 공정 관리 기본 원칙

∙비 청정 구역과의 구획을 통한 청정도 관리 기법

∙클린룸 시공 기본 원칙

나. 클린룸 구성을 위한

복합 공정의 이해

∙클린룸 단계별공정 FLOW

∙청정도 유지를 위한 청정 구획 및 선행 작업

∙단계별 청정관리 및 안전관리

다. 냉,열원 장비 설치와 클린룸 구성 및 시운전

∙클린룸 시운전을 위한 냉,열원 공정 관리 이해

∙에너지 절감 및 탄소배출 저감을 위한 적용 기술

반도체 FAB

유틸리티 기술

가. 반도체 장비 공급을 위한 유틸리티 공급 조건

∙공급 압력 및 접합, 재질에 따른 구성 방식

∙유해가스 배출에 따른 안전 및 운영관리

나. 유해 배출 가스 안전 운전

∙ 대단위 전자공장 플랜트 시설의 에너지 소모량

∙ 유해가스 배출 및 안전사고 사례 (유해가스 및 화재)

다. 유틸리티 종류 및 특성

∙hook - up과 지침서

∙반도체 클린룸에서의 배관 및 유틸리스 시공관리 작업 절차서